本公司经营三氟化氮99.99%、99.999%两种规格的的食品。详情请咨询:400-050-9975
品名: | 三氟化氮 |
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用途: | 三氟化氮主要用途是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子 蚀刻气体,对硅和 氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与 氧气的 混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。 |
别名 | 氟化氮; |
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